| 查看: 749 | 回复: 5 | |||
[交流]
离子注入后的印记
|
|||
|
半导体硅的器件在离子注入硼后产生印记,退火后也不消失。但有时却没有印记。注入前后都腐蚀过二氧化硅。 请问印记是怎么产生的? [ 发自手机版 http://muchong.com/3g ] |
» 猜你喜欢
修改论文,如何借助其他力量?
已经有4人回复
中山大学潘越教授课题组2027级推免硕士研究生招生 新增一个专业医学技术名额
已经有21人回复
无机化学论文润色/翻译怎么收费?
已经有185人回复
» 本主题相关价值贴推荐,对您同样有帮助:
北京机械工业自动化研究所招聘离子注入研究人员
已经有5人回复
请问上海有什么地方可以做离子注入的实验
已经有3人回复
【求助】离子注入-西安(或外地)
已经有9人回复
【求助】西安哪里可以做离子注入
已经有5人回复
【求助】请问哪里可以做离子注入
已经有8人回复
【求助】离子注入与电子辐射的区别
已经有7人回复
离子注入表面优化技术.pdf
已经有4人回复
2楼2012-10-06 11:51:04
4楼2012-10-06 16:14:38
5楼2012-10-06 20:48:09
6楼2012-10-06 22:43:18
简单回复
yxu19863楼
2012-10-06 12:30
回复










回复此楼
20