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yswyx

专家顾问 (著名写手)


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7楼: Originally posted by keanelijin at 2012-09-27 09:25:08
如果是要亲水话处理的话,还可以用铬酸洗液--->NaOH--->稀HNO3这样的步骤,不用加热,安全可靠

碱液是腐蚀硅片的,短时间的浸泡也会让硅片表面粗糙,这样洗太费片子了。而且Na+对硅片来说是沾污,以后很难去掉的。这个清洗方法的片子如果进了别的超净间,会很害人的,很可能出事故的。
11楼2012-09-27 10:02:25
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


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4楼: Originally posted by sally208 at 2012-09-26 19:37:30
个人经验,放在水浴里加热即可,最好在通风厨内操作。

水浴也危险,而且温度差点。最好用机器洗。
12楼2012-09-27 10:03:46
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hqh2012

新虫 (小有名气)

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11楼: Originally posted by yswyx at 2012-09-27 10:02:25
碱液是腐蚀硅片的,短时间的浸泡也会让硅片表面粗糙,这样洗太费片子了。而且Na+对硅片来说是沾污,以后很难去掉的。这个清洗方法的片子如果进了别的超净间,会很害人的,很可能出事故的。...

13楼2012-09-27 10:09:24
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hqh2012

新虫 (小有名气)

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12楼: Originally posted by yswyx at 2012-09-27 10:03:46
水浴也危险,而且温度差点。最好用机器洗。...

80度可否?
14楼2012-09-27 10:09:55
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yswyx

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8楼: Originally posted by yoesyte at 2012-09-27 09:48:15
这个不是洗液,是使硅片表面羟基化用的、新配置的P溶液就是热的,再次使用时需要加热。一般清洗硅片,我们用的是先HF酸,然后王水。最后纯水清洗。

HF是去表面自然氧化层的,王水这种东西能不用就不用。三号液的表面羟基化只是附带作用,而且起作用的主要是H2O2。而不加H2O2,仅仅浓硫酸沸腾清洗的话,也是可以达到去除有机沾污的作用的。
标准的RCA方法的流程是3321,然后再用QDR洗20遍,要求高的用兆声槽再来一次。最后氮气帘吹干出槽,进甩干机甩干。
版上的网友经常提到丙酮+超声的方法,这个方法只能用来做很初级的清洗,其实是很脏的。丙酮只能去除一定的有机沾污,稍微顽固一点儿就不行了,而超声是只能去除大颗粒的,10um以下的颗粒超声的作用十分有限,对1um以下的颗粒基本没用。

如果有机会,尽量用机器洗。
15楼2012-09-27 10:12:31
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


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6楼: Originally posted by fbqrdzs at 2012-09-27 09:01:57
我的做法相对简单,先用丙酮清洗超声1分钟以上清洗灰尘,然后再用酒精清洗丙酮,最后用清水清洗酒精。

这个方法是最不可取的。
16楼2012-09-27 10:13:31
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yoesyte

铁虫 (正式写手)

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15楼: Originally posted by yswyx at 2012-09-27 10:12:31
HF是去表面自然氧化层的,王水这种东西能不用就不用。三号液的表面羟基化只是附带作用,而且起作用的主要是H2O2。而不加H2O2,仅仅浓硫酸沸腾清洗的话,也是可以达到去除有机沾污的作用的。
标准的RCA方法的流程是 ...

不是附带作用,我们要在硅片上组装纳米粒子,羟基化是主要目的
17楼2012-09-27 10:40:21
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小昭好

金虫 (小有名气)

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9楼: Originally posted by hqh2012 at 2012-09-27 09:57:08
我们配置是在冰水浴条件下向硫酸中加入双氧水(搅拌),所以配种好的是冷却的。...

不要用冰水浴啊,常温下在通风橱里进行,往浓硫酸加双氧水和双氧水加浓硫酸是一样效果的,都是沸腾的。然后放到水浴里沸腾煮几个小时就行了。
只有想不到,没有做不到
18楼2012-09-27 10:59:06
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


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17楼: Originally posted by yoesyte at 2012-09-27 10:40:21
不是附带作用,我们要在硅片上组装纳米粒子,羟基化是主要目的...

这儿说清洗呢
19楼2012-09-27 11:19:16
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


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14楼: Originally posted by hqh2012 at 2012-09-27 10:09:55
80度可否?...

行啊,效果差的多。
20楼2012-09-27 11:20:37
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