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hqh2012

新虫 (小有名气)

[求助] 硅片清洗

在不少文献中看到清洗硅片或玻璃片时都用到H2SO4 +H2O2配制的洗液,想请问一下高手,用这个洗液时用不用加热?若需要,为什么要加热?加热温度如何选定?谢谢!
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yswyx

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引用回帖:
8楼: Originally posted by yoesyte at 2012-09-27 09:48:15
这个不是洗液,是使硅片表面羟基化用的、新配置的P溶液就是热的,再次使用时需要加热。一般清洗硅片,我们用的是先HF酸,然后王水。最后纯水清洗。

HF是去表面自然氧化层的,王水这种东西能不用就不用。三号液的表面羟基化只是附带作用,而且起作用的主要是H2O2。而不加H2O2,仅仅浓硫酸沸腾清洗的话,也是可以达到去除有机沾污的作用的。
标准的RCA方法的流程是3321,然后再用QDR洗20遍,要求高的用兆声槽再来一次。最后氮气帘吹干出槽,进甩干机甩干。
版上的网友经常提到丙酮+超声的方法,这个方法只能用来做很初级的清洗,其实是很脏的。丙酮只能去除一定的有机沾污,稍微顽固一点儿就不行了,而超声是只能去除大颗粒的,10um以下的颗粒超声的作用十分有限,对1um以下的颗粒基本没用。

如果有机会,尽量用机器洗。
15楼2012-09-27 10:12:31
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


【答案】应助回帖

★
感谢参与,应助指数 +1
hqh2012: 金币+1, ★★★很有帮助, 谢谢!望继续帮助 2012-09-27 09:54:09
这是RCA清洗里的三号液,要加热,煮沸。这个主要是为了将有机沾污碳化或氧化,煮沸就是为了达到最佳的效果,液体可以不断的循环并冲击硅片表面,否则沾污下不来。
加热温度一般在120度以上,自己实验用热板或磁力搅拌啥的,调节温度到这个温度,然后控制着不断鼓泡沸腾,但不能太猛烈,容易出危险。

如果没经验,建议不要轻易试,我可以给你找个地方帮忙洗。
2楼2012-09-26 18:19:10
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小昭好

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★
感谢参与,应助指数 +1
hqh2012: 金币+1, ★★★很有帮助, 谢谢 2012-09-27 09:54:39
用priaha洗液洗的过程是使硅片亲水的呀。配好后就是沸腾的,加热效果更好,煮沸几个小时就很好用了
只有想不到,没有做不到
3楼2012-09-26 18:21:53
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sally208

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

★
感谢参与,应助指数 +1
hqh2012: 金币+1, ★★★很有帮助 2012-09-27 09:57:22
个人经验,放在水浴里加热即可,最好在通风厨内操作。
4楼2012-09-26 19:37:30
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