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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


引用回帖:
10楼: Originally posted by hqh2012 at 2012-09-27 09:58:45
想一步做到清洁和亲水。...

用HF漂过的话,按照RCA的3321方法出来,是疏水的。从去离子水中捞出来,可以看到硅片表面的水很均匀。把硅片竖起来,然后就能看到水会很缓慢的从硅片顶部向下流。放上一会儿,硅片上的自然氧化层长起来,就开始变亲水了。这才是硅片彻底干净的状态。

如果做亲水处理,3号液可以,简单的双氧水也可以,无非是氧化或者上羟基。

所以理论上,清洗和亲水两个过程,仅仅用3号液,片子是洗不干净的,比如particle就洗不干净。
21楼2012-09-27 11:29:22
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yoesyte

铁虫 (正式写手)

引用回帖:
19楼: Originally posted by yswyx at 2012-09-27 11:19:16
这儿说清洗呢...

好吧
22楼2012-09-27 12:21:25
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hqh2012

新虫 (小有名气)

引用回帖:
17楼: Originally posted by yoesyte at 2012-09-27 10:40:21
不是附带作用,我们要在硅片上组装纳米粒子,羟基化是主要目的...

对,目的两个:洁净和羟基化。两者同等重要
23楼2012-09-28 16:04:54
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