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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 资源交流 » 硅片清洗
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yswyx

专家顾问 (著名写手)
引用回帖:
10楼: Originally posted by hqh2012 at 2012-09-27 09:58:45
想一步做到清洁和亲水。...

用HF漂过的话，按照RCA的3321方法出来，是疏水的。从去离子水中捞出来，可以看到硅片表面的水很均匀。把硅片竖起来，然后就能看到水会很缓慢的从硅片顶部向下流。放上一会儿，硅片上的自然氧化层长起来，就开始变亲水了。这才是硅片彻底干净的状态。

如果做亲水处理，3号液可以，简单的双氧水也可以，无非是氧化或者上羟基。

所以理论上，清洗和亲水两个过程，仅仅用3号液，片子是洗不干净的，比如particle就洗不干净。
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21楼2012-09-27 11:29:22
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yoesyte

铁虫 (正式写手)
引用回帖:
19楼: Originally posted by yswyx at 2012-09-27 11:19:16
这儿说清洗呢...

好吧
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22楼2012-09-27 12:21:25
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hqh2012

新虫 (小有名气)
引用回帖:
17楼: Originally posted by yoesyte at 2012-09-27 10:40:21
不是附带作用，我们要在硅片上组装纳米粒子，羟基化是主要目的...

对，目的两个:洁净和羟基化。两者同等重要
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23楼2012-09-28 16:04:54
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