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引用回帖:

10楼: Originally posted by hqh2012 at 2012-09-27 09:58:45
想一步做到清洁和亲水。...

用HF漂过的话，按照RCA的3321方法出来，是疏水的。从去离子水中捞出来，可以看到硅片表面的水很均匀。把硅片竖起来，然后就能看到水会很缓慢的从硅片顶部向下流。放上一会儿，硅片上的自然氧化层长起来，就开始变亲水了。这才是硅片彻底干净的状态。

如果做亲水处理，3号液可以，简单的双氧水也可以，无非是氧化或者上羟基。

所以理论上，清洗和亲水两个过程，仅仅用3号液，片子是洗不干净的，比如particle就洗不干净。