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super_zu

金虫 (正式写手)

[求助] 2个关于刻蚀的问题

1. ion bean etching的刻蚀方法,如果用Ar+刻蚀,那么Ar+是通过什么机理产生的呢?
2. reactive ion etching的过程中,RF power是通过什么机理产生plasma的呢?

谢谢
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piwawa615

禁虫 (初入文坛)

本帖内容被屏蔽

6楼2012-09-12 20:32:43
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Jackcd12

至尊木虫 (知名作家)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
离子束刻蚀主要是通过高能量的离子对材料表面的物理轰击,以气化,飞溅等方式将固体破坏,不排除也产生有化学过程。
而反应离子刻蚀,主要是通过离子束与固体表面分子的化学作用,将其转化为可小分子等使固体表面表面破坏的过程。
Themoreamanlearns,themoreheknowshisignorance!
2楼2012-09-06 14:37:17
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super_zu

金虫 (正式写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by Jackcd12 at 2012-09-05 18:37:17
离子束刻蚀主要是通过高能量的离子对材料表面的物理轰击,以气化,飞溅等方式将固体破坏,不排除也产生有化学过程。
而反应离子刻蚀,主要是通过离子束与固体表面分子的化学作用,将其转化为可小分子等使固体表面表 ...

您好,我想请教的是
1:如何产生Ar+束?
2:RF power怎么产生plasma呢?

谢谢
3楼2012-09-06 23:36:10
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Jackcd12

至尊木虫 (知名作家)

【答案】应助回帖

哦,这个问题说起来就不是一两句话能够说明白的了,属于高能物理的内容,你有兴趣的话,可看看这方面的书。
Themoreamanlearns,themoreheknowshisignorance!
4楼2012-09-07 09:09:23
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