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jamie82木虫 (著名写手)
一三三
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[求助]
如何才能防止/减轻TFT中SiN出现气泡？ 已有1人参与
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我们在生产LTPS-TFT时在ITO像素电极烘烤(230℃-60min)后出现Passivation层(材质为SiN，CVD成膜)气泡，有什么方法可以防止或减轻气泡发生吗？ 小弟在此拜谢了！  |
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lp806376231
铁虫 (小有名气)
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- 性别: GG
- 专业: 同步辐射技术及其应用
4楼2014-04-26 18:51:45
