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phonolite

无虫 (初入文坛)

[求助] 样品处理方式是否会对XRD衍射峰强度造成影响?

rt,同一个测试样品按照两种方式制样,得到的数据差别很大:一个测试是将样品从薄膜上刮下来,研成粉末,测得的XRD衍射峰强度很低,另一个测试是将样品薄膜剪片直接拿去测试,得到的衍射峰个数和位置与粉末样品相同,但最强峰的峰强提高了近10倍,其他衍生峰的强度变化不大。搞不明白这是怎么回事?请高手回答。

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singriver

金虫 (小有名气)

是择优取向的原因
2楼2007-05-28 09:28:03
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nanofuture

金虫 (著名写手)

膜应该用小角测,磨成粉末之后取向就不一致了
3楼2007-05-28 13:58:49
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seekerboy

捐助贵宾 (职业作家)

小木虫的超级粉丝

对,是最强峰代表的那个的方向,成为择优取向的问题。
------------------------与君共,觅芳华,两心印,双手牵,共并肩心不变。爱在心内暖。*^_^*
4楼2007-05-28 14:36:36
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seekerboy

捐助贵宾 (职业作家)

小木虫的超级粉丝

可能是薄膜生长时,是有方向的,因而在某个面的衍射就特别强,当你研磨后,取向变得杂乱无章,因而就看不到这个现象。
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5楼2007-05-29 01:05:37
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phonolite

无虫 (初入文坛)

引用回帖:
Originally posted by seekerboy at 2007-5-29 01:05 AM:
可能是薄膜生长时,是有方向的,因而在某个面的衍射就特别强,当你研磨后,取向变得杂乱无章,因而就看不到这个现象。

问题是我的样品不是薄膜生长沉积形成的。就是将样品颗粒混合粘结剂涂在基底上压成的片。在做测试之前样品片在高电势下被充分氧化,材料结构发生了变化。我以前都是把材料研磨后测XRD,这次用片直接测,就出现了这个现象。这能和择优取向联系起来吗?
6楼2007-05-29 13:23:45
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kontes

木虫 (知名作家)

H12 & H14

粉末衍射与择优取向无关吧
一刻宁静,一片天空
7楼2007-05-29 14:49:31
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wangzy1000

木虫 (正式写手)

就是将样品颗粒混合粘结剂涂在基底上压成的片。在做测试之前样品片在高电势下被充分氧化,材料结构发生了变化。这些会导致择优取向,最近有一个报道将溶液用手涂到基材上就有择优取向,你的更有可能
8楼2007-06-02 21:33:44
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123456789ww

新虫 (小有名气)

XRD的两种光路模式不同对衍射峰强度有影响。作粉末衍射的模式和做薄膜的是不是采用了一样的光路。再者就是薄膜制样是样品有取向,所以会出现这种情况。
9楼2007-06-03 08:30:41
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whpit

木虫 (著名写手)

参与衍射的体积不同?厚的薄膜的衍射峰要强于薄的薄膜,如果考虑择优取向的话,你可以对比下标准卡片,看看卡片的最强峰出现的位置。如果不是同一衍射晶面就可能是择优取向的影响
希望认识更多的朋友
10楼2007-06-03 09:04:26
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