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求助:磁控溅射制备ZnOS薄膜,重复不出来
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用磁控溅射制备ZnOS薄膜,以ZnS为靶材,以Ar和O2分别为工作气体和反应气体,通过改变氧分压调节ZnOS合金中的S含量。 两个月前第一次做实验时,制备出了结晶性较好的合金薄膜。但之后一直无法重复出来,所制备的样品为非晶(XRD上几乎没有信号)。请问有可能是哪些原因引起的? |
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minminqier
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18楼2012-09-29 09:25:46
Smallpeng
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