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求助：磁控溅射制备ZnOS薄膜，重复不出来
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用磁控溅射制备ZnOS薄膜，以ZnS为靶材，以Ar和O2分别为工作气体和反应气体，通过改变氧分压调节ZnOS合金中的S含量。 两个月前第一次做实验时，制备出了结晶性较好的合金薄膜。但之后一直无法重复出来，所制备的样品为非晶（XRD上几乎没有信号）。请问有可能是哪些原因引起的？ |
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