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单晶 Si 测试 FTIR (红外傅里叶光谱)的问题讨论
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王致远
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虫号: 1503408
[交流]
单晶 Si 测试 FTIR (红外傅里叶光谱)的问题讨论
我用 PLD在Si(100)上镀了一层薄膜,厚度200-300nm,薄膜致密,接触紧密。当我用FTIR 测试薄膜样品的红外谱时发现:空Si片的 透射强度小于薄膜样品的透射强度,这样导致 扣除背底后,透射率>1. 刚刚搜索了一下小木虫 发现2008年有一个相似的帖子,但是没有给出解释 就不了了之了。网址如下:
http://muchong.com/bbs/viewthread.php?tid=1003747
我本人认为可能是 Si片 抛光面反射较强,反射了一部分光,而我的样品虽然也比较平,但是还是没有Si片的反射强。所以空Si片的透射反而低了。 不知道我的解释对么? 大家有什么有相似的经历么?
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2012-06-13 10:46:43
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王致远
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虫号: 1503408
这种情况与样品有关,还是与背底Si片有关? 有没有人也遇到这样的情况,怎么解决的呀?
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2楼
2012-06-13 11:07:06
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longxinhubao
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这或许算是“增透膜”? 楼主可以尝试下用反射来做
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3楼
2012-06-14 08:37:15
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王致远
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虫号: 1503408
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3楼
:
Originally posted by
longxinhubao
at 2012-06-14 08:37:15
这或许算是“增透膜”? 楼主可以尝试下用反射来做
不会吧,薄膜厚度200nm。 傅里叶红外是单色的,不满足半波的要求吧?
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4楼
2012-06-14 10:36:42
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sbffgef298
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2012-07-01 13:46:54
楼主,你是要做薄膜的红外光谱,用空硅片做背景,用镀膜的片做样品吧?
其实还有一种做法。你把空硅片的图和镀膜片的图都打出来,做差减光谱。这样就不会遇到前面的问题了。
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5楼
2012-07-01 13:38:57
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