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关于TiO2掺杂DOS图的问题
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[交流]
关于TiO2掺杂DOS图的问题
本人菜鸟,正在做TiO2掺杂计算,发现做出来的DOS图与文献中相差较大,TiO2带隙中本该出现的杂质态却没有出现,师哥师姐们帮帮看看哪里出错了!
P.S
DOS计算的INCAR文件
SYSTEM = TiO2-anatase
ENCUT = 400
ISTART = 1 ; ICHARG = 11
ISMEAR = -5
RWIGS = 0.900 1.217 1.487
PREC = Accurate
LWAVE = .FALSE.
NPAR = 1
VOSKOWN = 1
GGA = 91
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怎么没有人理我,帮帮忙么!
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2012-04-30 16:12:37
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初学者vasp(金币+1): 谢谢参与
RWIGS = 0.900 1.217 1.487
这一行的数据怎么来的?
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2012-04-30 16:22:15
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初学者vasp(金币+1): 谢谢参与
御剑江湖: 金币+1, 谢谢~~~
2012-04-30 21:44:04
看INCAR好像没什么问题,你再提供点其他的信息,如POSCAR以及计算时候的stdout。
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4楼
2012-04-30 16:42:30
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初学者vasp(金币+1): 谢谢参与
zzy870720z: 金币+2, 谢谢指教
2012-04-30 18:37:10
个人觉着最好将SIGMA取小一点如0.01来算DOS,让各种小峰显示出来。Ef附近应该有各种小峰的,可能是杂质峰造成。TiO2应该是绝缘体,不掺杂的体系的Ef是在带隙中间位置的,而你的掺杂体系Ef在导带底附近,这就是有掺杂造成的,类似于N型半导体掺杂体系的情况。
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2012-04-30 18:15:47
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fzx2008: 金币+3, 谢谢指教
2012-05-01 10:38:42
(1)看你掺什么东西了,不是所有掺杂元素都会引起带边结构的变化。
(2)另外,如果有文献确定这种元素掺杂或这种方式掺杂带边结构会有变化,那你要检查一下掺杂模型是否合理了。
(3)一些参数的设置也会有影响,如K空间的取样方向,方式以及SMEAR值的大小。
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6楼
2012-05-01 06:23:38
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Originally posted by
rxd337
at 2012-04-30 18:15:47:
个人觉着最好将SIGMA取小一点如0.01来算DOS,让各种小峰显示出来。Ef附近应该有各种小峰的,可能是杂质峰造成。TiO2应该是绝缘体,不掺杂的体系的Ef是在带隙中间位置的,而你的掺杂体系Ef在导带底附近,这就是有掺 ...
ISMEAR = -5时,好像计算时不会读取SIGMA的值
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7楼
2012-05-01 19:19:11
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mxiangying
at 2012-05-01 06:23:38:
(1)看你掺什么东西了,不是所有掺杂元素都会引起带边结构的变化。
(2)另外,如果有文献确定这种元素掺杂或这种方式掺杂带边结构会有变化,那你要检查一下掺杂模型是否合理了。
(3)一些参数的设置也会有影 ...
谢谢!我再思忖一下
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2012-05-01 19:21:04
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六198
at 2012-04-30 16:42:30:
看INCAR好像没什么问题,你再提供点其他的信息,如POSCAR以及计算时候的stdout。
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9楼
2012-05-01 19:21:20
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Originally posted by
初学者vasp
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ISMEAR = -5时,好像计算时不会读取SIGMA的值
啊那你的DOS图怎么那么平滑
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2012-05-02 08:43:29
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liliangfang: 金币+1, 谢谢交流
2012-05-04 08:46:42
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11楼
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Originally posted by
rxd337
at 2012-05-02 08:43:29:
啊那你的DOS图怎么那么平滑
我的意思是sigma会是默认值,具体是啥我也不知道,图就是这样啊
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12楼
2012-05-03 20:42:28
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12楼
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Originally posted by
初学者vasp
at 2012-05-03 20:42:28:
我的意思是sigma会是默认值,具体是啥我也不知道,图就是这样啊
可你用的ISMEAR=-5,应该不会没有峰的,你画图用的啥,怎么把峰都抹掉了?
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13楼
2012-05-04 08:44:37
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