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关于TiO2掺杂DOS图的问题
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初学者vasp
铜虫
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[交流]
关于TiO2掺杂DOS图的问题
本人菜鸟,正在做TiO2掺杂计算,发现做出来的DOS图与文献中相差较大,TiO2带隙中本该出现的杂质态却没有出现,师哥师姐们帮帮看看哪里出错了!
P.S
DOS计算的INCAR文件
SYSTEM = TiO2-anatase
ENCUT = 400
ISTART = 1 ; ICHARG = 11
ISMEAR = -5
RWIGS = 0.900 1.217 1.487
PREC = Accurate
LWAVE = .FALSE.
NPAR = 1
VOSKOWN = 1
GGA = 91
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2012-04-30 12:59:43
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木虫
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★ ★ ★
初学者vasp(金币+1): 谢谢参与
zzy870720z: 金币+2, 谢谢指教
2012-04-30 18:37:10
个人觉着最好将SIGMA取小一点如0.01来算DOS,让各种小峰显示出来。Ef附近应该有各种小峰的,可能是杂质峰造成。TiO2应该是绝缘体,不掺杂的体系的Ef是在带隙中间位置的,而你的掺杂体系Ef在导带底附近,这就是有掺杂造成的,类似于N型半导体掺杂体系的情况。
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5楼
2012-04-30 18:15:47
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初学者vasp
铜虫
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怎么没有人理我,帮帮忙么!
[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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2楼
2012-04-30 16:12:37
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mengfc
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★
初学者vasp(金币+1): 谢谢参与
RWIGS = 0.900 1.217 1.487
这一行的数据怎么来的?
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3楼
2012-04-30 16:22:15
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★ ★
初学者vasp(金币+1): 谢谢参与
御剑江湖: 金币+1, 谢谢~~~
2012-04-30 21:44:04
看INCAR好像没什么问题,你再提供点其他的信息,如POSCAR以及计算时候的stdout。
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4楼
2012-04-30 16:42:30
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