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super_zu

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

引用回帖:
10楼: Originally posted by super_zu at 2012-05-02 01:33:57:
你可以这样解决,断开源与系统,precursor pulse 设为0s,高温bake chamber,加热precursor delivery line,做500cycles。这样应该可以解决了。

你这种情况是使用不当造成的。
11楼2012-05-02 01:49:15
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匿名

用户注销 (小有名气)

本帖仅楼主可见
12楼2012-05-02 08:41:01
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super_zu

金虫 (正式写手)

引用回帖:
12楼: Originally posted by yzdelei at 2012-05-02 08:41:01:
你是说腔体和管路内部不干净吗?我觉得会不会是 precursor 和 H2O 的比例出现了问题?或者是气体进入腔体内部时没有混合均匀?

如果你们的机器是买的,不会出现你说的问题。而且你的参数我看了,源65度以下,chamber 1torr,基本不会有问题。而且ALD是self-limiting跟混合关系不是特别大,除非你的系统设计上有很大问题。还有,我觉得你源pulse时间可能有点长,或者温度太高了。
13楼2012-05-02 10:29:26
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568977122

铁杆木虫 (著名写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by ensureald at 2012-04-26 09:42:40
白色粉末的出现,说明你的试验没有实现ALD生长
一种原因是发生了CVD效应,也有可能是你的沉积温度过高,前趋体分解了吧!不清楚你用的是哪家的设备,有些设备沉积也略有区别,我们完全可以实现HfO2的沉积,有问题可 ...

您好,我最近在用溅射做氧化铪,但是漏电流太大,您最近还在用ALD做氧化铪吗,?

发自小木虫Android客户端
VENIVIDIVICI!!!
14楼2018-10-10 23:40:14
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