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匿名

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568977122

铁杆木虫 (著名写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by ensureald at 2012-04-26 09:42:40
白色粉末的出现,说明你的试验没有实现ALD生长
一种原因是发生了CVD效应,也有可能是你的沉积温度过高,前趋体分解了吧!不清楚你用的是哪家的设备,有些设备沉积也略有区别,我们完全可以实现HfO2的沉积,有问题可 ...

您好,我最近在用溅射做氧化铪,但是漏电流太大,您最近还在用ALD做氧化铪吗,?

发自小木虫Android客户端
VENIVIDIVICI!!!
14楼2018-10-10 23:40:14
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ensureald

铁虫 (初入文坛)

白色粉末的出现,说明你的试验没有实现ALD生长
一种原因是发生了CVD效应,也有可能是你的沉积温度过高,前趋体分解了吧!不清楚你用的是哪家的设备,有些设备沉积也略有区别,我们完全可以实现HfO2的沉积,有问题可以多交流!

» 本帖已获得的红花(最新10朵)

2楼2012-04-26 09:42:40
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super_zu

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
yzdelei: 金币+15, ★★★很有帮助, 非常感谢,有点疑惑就是,压力高应该更容易purge吧 2012-04-30 06:49:24
1.purecursor pulse 时间过长,且purge时间不足,不是inert gas用光了吧
2.precursor 温度过高,precursor大量物理吸附,这样inert没法purge的
3.使用不善,造成管路里面残留大量precursor
4.系统压力过高
还有TDEAH用moisture就能反应,问什么用h2o2呢?
这个precursor, 200度1.2的growthrate非常经典,应该不难实现
3楼2012-04-29 13:54:35
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匿名

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4楼2012-04-30 06:50:16
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