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匿名

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ensureald

铁虫 (初入文坛)

白色粉末的出现,说明你的试验没有实现ALD生长
一种原因是发生了CVD效应,也有可能是你的沉积温度过高,前趋体分解了吧!不清楚你用的是哪家的设备,有些设备沉积也略有区别,我们完全可以实现HfO2的沉积,有问题可以多交流!

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2楼2012-04-26 09:42:40
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super_zu

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引用回帖:
7楼: Originally posted by yzdelei at 2012-05-01 10:14:35:
最近白色的现象没了,但是薄膜不均匀,不知道什么原因,要是ALD生长的话,硅片背面也应该有颜色变化的,现在达不到这种状态啊,拜求原因

你是突然出现白色的粉末状东西?
还是好久不用系统,然后一开始用就有了?

而且这个影响因素太多了,你能说说实验条件么?

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8楼2012-05-01 10:29:23
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super_zu

金虫 (正式写手)

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★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
yzdelei: 金币+15, ★★★很有帮助, 非常感谢,有点疑惑就是,压力高应该更容易purge吧 2012-04-30 06:49:24
1.purecursor pulse 时间过长,且purge时间不足,不是inert gas用光了吧
2.precursor 温度过高,precursor大量物理吸附,这样inert没法purge的
3.使用不善,造成管路里面残留大量precursor
4.系统压力过高
还有TDEAH用moisture就能反应,问什么用h2o2呢?
这个precursor, 200度1.2的growthrate非常经典,应该不难实现
3楼2012-04-29 13:54:35
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匿名

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4楼2012-04-30 06:50:16
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super_zu

金虫 (正式写手)

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引用回帖:
3楼: Originally posted by super_zu at 2012-04-29 13:54:35:
1.purecursor pulse 时间过长,且purge时间不足,不是inert gas用光了吧
2.precursor 温度过高,precursor大量物理吸附,这样inert没法purge的
3.使用不善,造成管路里面残留大量precursor
4.系统压力过高
还 ...

是precursor过多,引起的压力升高。
5楼2012-04-30 07:19:55
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super_zu

金虫 (正式写手)

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引用回帖:
5楼: Originally posted by super_zu at 2012-04-30 07:19:55:
是precursor过多,引起的压力升高。

你是突然出现白色的粉末状东西?
还是好久不用系统,然后一开始用就有了?

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6楼2012-04-30 07:53:33
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匿名

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7楼2012-05-01 10:14:35
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9楼2012-05-01 19:09:45
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super_zu

金虫 (正式写手)

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yzdelei: 金币+5, ★有帮助 2012-05-02 08:45:33
你可以这样解决,断开源与系统,precursor pulse 设为0s,高温bake chamber,加热precursor delivery line,做500cycles。这样应该可以解决了。
10楼2012-05-02 01:33:57
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