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jaychenyl木虫 (小有名气)
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[交流]
离子探针（IMS 1280或NanoSIMS）用Cs+做一次离子源时的电子枪补偿已有2人参与
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离子探针用Cs+做一次离子源时的需要电子枪补偿，是什么原因? 为何O-做一次离子源时不需要呢？ |
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2楼2012-04-04 22:24:36
jaychenyl
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我看到有篇文献提了一下，跟你说的一样。我也贴过来了，不过最后一句我没明白，This can be problematic when parts of the sample conduct.为什么部分导电就会有问题？另外，用O-就不会有电荷累积吗？ As SIMS uses high voltages to accelerate the primary ions, the sample must be conductive. It is therefore necessary to coat non-conducting samples, such as minerals, glasses and ceramics, with a conductive metal film. Typically, a thin (5 nm) gold (Au) coat is used as Au generally does not react with the sample. During sputtering, the Au coat is eroded away exposing the underlying sample surface, which becomes, once again, non-conductive. The ionisation efficiency, and hence the secondary ion yield from the sample, increases with increasing primary ion implantation. As the ion beam erodes the Au coat away, there is an optimum time when the signal is strongest – shortly before the Au coat is entirely removed. After this stage, an electron flood gun may be used to dissipate charge build-up along the edges of the sputter crater, and allow secondary ions to leave the sample surface. This can be problematic when parts of the sample conduct. |
3楼2012-04-07 09:48:48
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5楼2012-04-09 14:05:27
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