应《网络安全法》要求，自2017年10月1日起，未进行实名认证将不得使用互联网跟帖服务。为保障您的帐号能够正常使用，请尽快对帐号进行手机号验证，感谢您的理解与支持！

24小时热门版块排行榜    

小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 电化学 » 电分析测试 » 交流阻抗测有机涂层/金属的问题
31/1返回列表
查看: 878  |  回复: 2
只看楼主 @他人 存档 新回复提醒 (忽略) 收藏    在APP中查看

sdomfd2008

铜虫 (初入文坛)

[求助] 交流阻抗测有机涂层/金属的问题

新手不太懂EIS，求助
（1）因为有机涂层阻抗高，扰动电压加的比较大，那扰动电位大小对测量结果有什么影响？会对测量体系造成破坏吗？
（2）测量EIS前系统先测量OCP，由于体系原因OCP不是很稳，那OCP的大小或者稳定程度对结果有什么影响？
电化学工作站是Autolab,OCP在0附近上下波动，阻抗模值达10次方
回复此楼

» 猜你喜欢

» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:
1楼 2012-03-30 16:21:09
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

匿名

用户注销 (小有名气)

千山
感谢参与，应助指数 +1
本帖仅楼主可见
赞一下
2楼2012-03-30 19:48:01
已阅   申请ECEPI   回复此楼   编辑   查看我的主页

sdomfd2008

铜虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by gwbingo at 2012-03-30 19:48:01:
我也遇到同样的问题，有时候开路电压都超出最大量程了，做出来EIS低频区都是散点，图没法用，可以多交流一下，头疼啊~

呵呵，好 不过你测量体系是什么？裸金属还是？
赞一下 回复此楼
3楼2012-03-31 14:50:58
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖
相关版块跳转 我要订阅楼主 sdomfd2008 的主题更新
31/1返回列表
普通表情 龙 兔 虎 猫
信息提示
关闭
请填处理意见
关闭