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sdomfd2008

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[求助] 交流阻抗测有机涂层/金属的问题

新手不太懂EIS，求助
（1）因为有机涂层阻抗高，扰动电压加的比较大，那扰动电位大小对测量结果有什么影响？会对测量体系造成破坏吗？
（2）测量EIS前系统先测量OCP，由于体系原因OCP不是很稳，那OCP的大小或者稳定程度对结果有什么影响？
电化学工作站是Autolab,OCP在0附近上下波动，阻抗模值达10次方

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1楼 2012-03-30 16:21:09

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匿名

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千山

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2楼2012-03-30 19:48:01

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sdomfd2008

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引用回帖:

2楼: Originally posted by gwbingo at 2012-03-30 19:48:01:
我也遇到同样的问题，有时候开路电压都超出最大量程了，做出来EIS低频区都是散点，图没法用，可以多交流一下，头疼啊~

呵呵，好不过你测量体系是什么？裸金属还是？

3楼2012-03-31 14:50:58

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