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sdomfd2008

铜虫 (初入文坛)

[求助] 交流阻抗测有机涂层/金属的问题

新手不太懂EIS,求助
(1)因为有机涂层阻抗高,扰动电压加的比较大,那扰动电位大小对测量结果有什么影响?会对测量体系造成破坏吗?
(2)测量EIS前系统先测量OCP,由于体系原因OCP不是很稳,那OCP的大小或者稳定程度对结果有什么影响?
电化学工作站是Autolab,OCP在0附近上下波动,阻抗模值达10次方
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匿名

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千山

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2楼2012-03-30 19:48:01
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sdomfd2008

铜虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by gwbingo at 2012-03-30 19:48:01:
我也遇到同样的问题,有时候开路电压都超出最大量程了,做出来EIS低频区都是散点,图没法用,可以多交流一下,头疼啊~

呵呵,好 不过你测量体系是什么?裸金属还是?
3楼2012-03-31 14:50:58
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