2楼: Originally posted by 晴朗的影子 at 2012-03-26 11:18:43:
H2O2:H2SO4=3:7   
不用加热，二者混合就会产生很大热量。
处理时间半小时其实就够了，你想保证最大羟基化，那就处理时间长一点。

3楼: Originally posted by frunze at 2012-03-26 23:36:32:
你想最大羟基化，原则上应该将原始Ti表面的一层自氧化层去掉，再氧化一层新的。
当然我觉得和直接氧化两者间差别不会特别大。
方法楼上说过了。
XPS O 1s 就是 -OH及O-Ti-O啊，这两个分不太开。
尝试下 表面红 ...

6楼: Originally posted by 晴朗的影子 at 2012-03-28 11:34:15:
浸泡后，再用水浸泡，应该是除去残留的硫酸根等离子。一般保存也是可以在水中保存的。放置时间长了后，亲水性应该会降低，表面会重新氧化吧。表面刻蚀我不太知道，我用过玻璃片和硅片，用这个处理，都是亲水性处理 ...

7楼: Originally posted by tanying223 at 2012-03-28 11:41:18:
请问你处理后是在氮气或氩气保护下烘干的吗？因为条件有限，我直接烘干的，不知道影响大不大。总之，很感谢你的帮助！

8楼: Originally posted by frunze at 2012-03-28 20:08:40:
浸泡是为了保证表面的亲水性的。
空气中有VOCs 灰尘等存在，会覆盖表面使得亲水角变高。
何种烘干方式应该关系都不大。

9楼: Originally posted by tanying223 at 2012-03-28 23:23:47:
我今天拿到拉曼结果了，居然出现的就是锐钛矿那个峰，根本说明不了有羟基的存在，感觉又白费力气了。唉，感觉要表征出钛表面氧化后的羟基峰真的不太可能哦。