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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 求助最小线宽6um，最小间隔2um，用什么工艺比较好？
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resumer

新虫 (初入文坛)

[交流] 求助最小线宽6um，最小间隔2um，用什么工艺比较好？ 已有4人参与

需要做um结构阵列，最小线宽6um，最小间隔2um，一般用什么工艺比较好？光刻还是电子束曝光？都需要掩膜板吗，掩膜板怎么做？花费怎么样？求各路大神解答
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1楼 2012-03-16 12:58:01
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fyl1989

金虫 (正式写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
直接光刻就行，如果你需要的只是在小片子上做图形（<2 inch），只用做一个2 inch的光刻掩膜版就行，价钱的话大概也就500左右，中科院微电子所就能做。
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3楼2013-12-19 09:55:18
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songsongsong443

铁杆木虫 (正式写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
光刻，需要掩模版。你的分辨率要求不高，不需要电子束曝光。
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候补中年人
2楼2012-03-16 13:48:45
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我的芝麻

木虫 (小有名气)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
光刻工艺用普通紫外光刻就行（分辨率1um），无需电子束曝光，需制作光刻板（南京中电55所，800—1200元一块，画好结构版图给人发过去就行）
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用心做好一件事
4楼2013-12-24 16:34:49
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ping10nkc

银虫 (小有名气)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
首先一定是光刻。
掩模板是可以实现的，
但现在也不是必须的，直写就可以了。
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5楼2014-01-26 14:01:18
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