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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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resumer

新虫 (初入文坛)

[交流] 求助最小线宽6um,最小间隔2um,用什么工艺比较好? 已有4人参与

需要做um结构阵列,最小线宽6um,最小间隔2um,一般用什么工艺比较好?光刻还是电子束曝光?都需要掩膜板吗,掩膜板怎么做?花费怎么样?求各路大神解答
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fyl1989

金虫 (正式写手)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
直接光刻就行,如果你需要的只是在小片子上做图形(<2 inch),只用做一个2 inch的光刻掩膜版就行,价钱的话大概也就500左右,中科院微电子所就能做。
3楼2013-12-19 09:55:18
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songsongsong443

铁杆木虫 (正式写手)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
光刻,需要掩模版。你的分辨率要求不高,不需要电子束曝光。
候补中年人
2楼2012-03-16 13:48:45
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我的芝麻

木虫 (小有名气)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
光刻工艺用普通紫外光刻就行(分辨率1um),无需电子束曝光,需制作光刻板(南京中电55所,800—1200元一块,画好结构版图给人发过去就行)
用心做好一件事
4楼2013-12-24 16:34:49
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ping10nkc

银虫 (小有名气)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
首先一定是光刻。
掩模板是可以实现的,
但现在也不是必须的,直写就可以了。
5楼2014-01-26 14:01:18
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