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xixiqs

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[求助] 负胶光刻做倒梯形的程度与曝光时间有什么关系？？

是在可以显影出图形的情况下，曝光时间控制短些，形成的倒梯形就越倒？？？
对吗？？

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人心是唯一的国界。。。

1楼2012-02-17 14:39:16

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ciompman

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【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
nuaajsh(金币+1): 鼓励交流 2012-02-25 13:43:20

负胶光刻是比较不好控制的，各个所需要控制的量之间总是有各种不太确定的关系。如果单看能量的话，理论上讲，曝光时间短，胶体下表面就不会得到完全曝光，容易形成倒梯形。但是实际上，负胶光刻除了与曝光量有关系外，还与光刻胶厚度、图形尺寸以及显影时间等关系密切。需要各方面考虑才能得到好的结果。

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2楼2012-02-18 19:31:33

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xixiqs

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引用回帖:

楼: Originally posted by ciompman at 2012-02-18 19:31:33:
负胶光刻是比较不好控制的，各个所需要控制的量之间总是有各种不太确定的关系。如果单看能量的话，理论上讲，曝光时间短，胶体下表面就不会得到完全曝光，容易形成倒梯形。但是实际上，负胶光刻除了与曝光量有关系 ...

负胶的坚膜对梯形会产生影响吧？？如果显影之后不坚膜，如何清洗和去除水分呢

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人心是唯一的国界。。。

3楼2012-02-20 13:47:34

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