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负胶光刻做倒梯形的程度与曝光时间有什么关系??
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负胶光刻做倒梯形的程度与曝光时间有什么关系??
是在可以显影出图形的情况下,曝光时间控制短些,形成的倒梯形就越倒???
对吗??
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1楼
2012-02-17 14:39:16
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【答案】应助回帖
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7楼
:
Originally posted by
xixiqs
at 2012-02-21 16:39:31:
他们说曝光后烘烤对梯形影响很大,但显影后坚膜对倒梯形同样有很大影响。。。
那你就按照工程师的建议实验,应该就可以了
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8楼
2012-02-21 17:25:00
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ciompman
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【答案】应助回帖
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nuaajsh(金币+1): 鼓励交流 2012-02-25 13:43:20
负胶光刻是比较不好控制的,各个所需要控制的量之间总是有各种不太确定的关系。如果单看能量的话,理论上讲,曝光时间短,胶体下表面就不会得到完全曝光,容易形成倒梯形。但是实际上,负胶光刻除了与曝光量有关系外,还与光刻胶厚度、图形尺寸以及显影时间等关系密切。需要各方面考虑才能得到好的结果。
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2楼
2012-02-18 19:31:33
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楼
:
Originally posted by
ciompman
at 2012-02-18 19:31:33:
负胶光刻是比较不好控制的,各个所需要控制的量之间总是有各种不太确定的关系。如果单看能量的话,理论上讲,曝光时间短,胶体下表面就不会得到完全曝光,容易形成倒梯形。但是实际上,负胶光刻除了与曝光量有关系 ...
负胶的坚膜对梯形会产生影响吧??如果显影之后不坚膜,如何清洗和去除水分呢
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人心是唯一的国界。。。
3楼
2012-02-20 13:47:34
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3楼
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Originally posted by
xixiqs
at 2012-02-20 13:47:34:
负胶的坚膜对梯形会产生影响吧??如果显影之后不坚膜,如何清洗和去除水分呢
显影之后再坚膜应该影响不大,甚至好多过程都需要显影后坚膜!
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4楼
2012-02-20 14:25:21
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