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styrenes

铁杆木虫 (著名写手)

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[交流] 问一个问题。

我们平时用的硅基底表面有热生长的300nm二氧化硅层。

如果我用氢氟酸把二氧化硅层腐蚀掉，能得到平整的表面吗？

可以用它做STM吗？

谢谢。

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二氧化硅微球制备及表面改性

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1楼 2012-02-02 11:00:02

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孙?�730

至尊木虫 (知名作家)

★
styrenes(金币+1):谢谢参与

1. 氢氟酸把二氧化硅层腐蚀掉应该可以但是表面可能仍然存在“OH”
2. 表面是否平整影响因素应该很多
3. STM 应该还好吧

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2楼2012-02-02 14:45:47

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styrenes

铁杆木虫 (著名写手)

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???????:

2?: Originally posted by ????730 at 2012-02-02 14:45:47:
1. ????????????????? ?????? ???? ???????????????OH??
2. ???? ?????? ?????????ú??
3. STM ???????

2, ???????SiO2????????????Si???棬???Si????????????

3????????????STM????????????????????á?????????????????????????????п??????????????

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3楼2012-02-02 15:49:35

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孙?�730

至尊木虫 (知名作家)

引用回帖:

3楼: Originally posted by styrenes at 2012-02-02 15:49:35:
2, 我是说把SiO2刻蚀掉，裸露出Si表面，这个Si表面可能平整吗？

3，我想拿它做STM表征的基底。你是说“还好”是指刻蚀掉后可以用作基底，还是没有刻蚀就可以做基底？

~~~~~
2. 我也是在说刻蚀后表面是否平整影响因素很多如晶面指数 / 时间~~
3. 应该是刻蚀的好些隧道效应应该会相对明显不过样品是什么也很重要

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4楼2012-02-02 15:58:20

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