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styrenes

铁杆木虫 (著名写手)

[交流] 问一个问题。

我们平时用的硅基底表面有热生长的300nm二氧化硅层。

如果我用氢氟酸把二氧化硅层腐蚀掉，能得到平整的表面吗？

可以用它做STM吗？

谢谢。
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1楼 2012-02-02 11:00:02
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styrenes

铁杆木虫 (著名写手)
???????:
2?: Originally posted by ????730 at 2012-02-02 14:45:47:
1. ????????????????? ?????? ???? ???????????????OH??
2. ???? ?????? ?????????ú??
3. STM ???????

2, ???????SiO2????????????Si???棬???Si????????????

3????????????STM????????????????????á?????????????????????????????п??????????????
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3楼2012-02-02 15:49:35
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孙?�730

至尊木虫 (知名作家)
★
styrenes(金币+1):谢谢参与
1. 氢氟酸把二氧化硅层腐蚀掉 应该可以 但是 表面可能仍然存在“OH”
2. 表面 是否平整 影响因素应该很多
3. STM 应该还好吧
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2楼2012-02-02 14:45:47
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孙?�730

至尊木虫 (知名作家)
引用回帖:
3楼: Originally posted by styrenes at 2012-02-02 15:49:35:
2, 我是说把SiO2刻蚀掉，裸露出Si表面，这个Si表面可能平整吗？

3，我想拿它做STM表征的基底。你是说“还好”是指刻蚀掉后可以用作基底，还是没有刻蚀就可以做基底？

~~~~~
2. 我也是在说 刻蚀后表面是否平整 影响因素很多  如晶面指数 / 时间~~
3. 应该是刻蚀的好些 隧道效应应该会相对明显 不过 样品是什么也很重要
赞一下 回复此楼
4楼2012-02-02 15:58:20
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userhung

禁虫 (文学泰斗)
★
styrenes(金币+1):谢谢参与
应该可以哦，不过是否平整？难说，祝福好运~~~~~~~~```
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5楼2012-02-02 17:36:38
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wangxin1016楼
2012-02-02 18:02   回复  
styrenes(金币+1):谢谢参与
nono2009: 专业区求助帖请勿灌水赚金币。谢谢！ 2012-02-02 20:32:41
支持下
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