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styrenes

铁杆木虫 (著名写手)


[交流] 问一个问题。

我们平时用的硅基底表面有热生长的300nm二氧化硅层。

如果我用氢氟酸把二氧化硅层腐蚀掉,能得到平整的表面吗?

可以用它做STM吗?

谢谢。
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donghuig

新虫 (初入文坛)


★
styrenes(金币+1): 谢谢参与
可以尝试,但可能性或许不高.
如何保证SiO2/Si界面原子尺寸平整是难点,不过不见得有人尝试过,或许是个新发现也不一定哦.
SiC加热后产生石墨烯,相当平整的说
7楼2012-05-24 16:27:08
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查看全部 8 个回答
★
styrenes(金币+1):谢谢参与
1. 氢氟酸把二氧化硅层腐蚀掉 应该可以 但是 表面可能仍然存在“OH”
2. 表面 是否平整 影响因素应该很多
3. STM 应该还好吧
2楼2012-02-02 14:45:47
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styrenes

铁杆木虫 (著名写手)


???????:
2?: Originally posted by ????730 at 2012-02-02 14:45:47:
1. ????????????????? ?????? ???? ???????????????OH??
2. ???? ?????? ?????????ú??
3. STM ???????

2, ???????SiO2????????????Si???棬???Si????????????

3????????????STM????????????????????á?????????????????????????????п??????????????
3楼2012-02-02 15:49:35
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引用回帖:
3楼: Originally posted by styrenes at 2012-02-02 15:49:35:
2, 我是说把SiO2刻蚀掉,裸露出Si表面,这个Si表面可能平整吗?

3,我想拿它做STM表征的基底。你是说“还好”是指刻蚀掉后可以用作基底,还是没有刻蚀就可以做基底?

~~~~~
2. 我也是在说 刻蚀后表面是否平整 影响因素很多  如晶面指数 / 时间~~
3. 应该是刻蚀的好些 隧道效应应该会相对明显 不过 样品是什么也很重要
4楼2012-02-02 15:58:20
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简单回复
2012-02-02 18:02   回复  
styrenes(金币+1):谢谢参与
nono2009: 专业区求助帖请勿灌水赚金币。谢谢! 2012-02-02 20:32:41
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