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fanglilm

铜虫 (小有名气)

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[求助] 氧化硅球的刻蚀

我现在做的是二氧化硅的核壳结构，想把二氧化硅刻蚀成多孔的结构，文献上大都用用浓的氢氧化钠刻蚀，我想用氢氟酸，但是文献上用氢氟酸大都是把氧化硅全都刻蚀掉了。请问用低浓度的氢氟酸刻蚀能得到多孔的二氧化硅么？

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1楼 2012-01-02 10:47:55

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Varyag

铜虫 (初入文坛)

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性别: GG
专业: 半导体晶体与薄膜材料

我也现在也想知道氢氟酸刻蚀二氧化硅的具体操作流程，我总结的文献上说用10%氢氟酸比较好，但是反应时间貌似没有人提到过，这个是我比较纠结的

2楼2016-11-22 08:29:30

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蓝猫2009

新虫 (著名写手)

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专业: 电力电子学

湿法腐蚀的可控性不行，虽然操作简单但是效果不好把握，采用干法刻蚀应该比较好吧

3楼2018-06-04 11:03:44

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