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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 询问大家做lift-off都用什么胶？
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exciting1973

禁虫 (正式写手)
本帖内容被屏蔽
11楼2012-09-16 18:36:00
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wen.bo.0101

新虫 (初入文坛)
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引用回帖:
6楼: Originally posted by hustjohn at 2011-12-19 17:03:14
2楼说的对。剥离用负胶比较好。主要跟光刻原理有关。

正胶是曝光部分被显影掉。光刻胶层顶部比底部的曝光量更充足，所以显影后容易形成上面小下面大的“正梯形”截面。这样镀金属后很难剥离掉。负胶则正好相反。 ...

说反了吧，正胶曝光区域容易形成的应该是上大下小的梯形截面吧，这样才不好剥离
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12楼2014-10-23 09:13:47
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vincentwz

铁杆木虫 (著名写手)
★
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引用回帖:
7楼: Originally posted by xixiqs at 2011-12-19 20:44:55
没有用过这种胶。。但回复很专业...

而且AZ5214E作为正胶，分辨率比负胶要好，所以成为剥离工艺的大众选择
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13楼2014-10-30 11:42:30
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二十二点五十

铁虫 (初入文坛)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
我们用的AZ 4030反转胶
首先紫外曝光一次,完了泛曝光一次,4030和负胶的区别是台阶不同
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莫道微纳尺度小 方寸之地舞大风
14楼2015-09-28 17:52:12
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翅断梦来了

新虫 (初入文坛)
★
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引用回帖:
2楼: Originally posted by damuchongzi at 2011-12-13 13:48:05
剥离一般是用负胶，主要考虑显影后的形貌。当然一般负胶需要相对应的特定显影液，成本比较高，处理比较复杂。也可以用反转胶如AZ5214或正胶反转工艺（需要特殊的红外烘箱和溶剂）达到剥离所需光刻胶形貌。

我也是用的az5214反转胶，然后再上面长了80nm的金属，发现之后用丙酮剥离比较难去掉。如果产生震荡的话，表面的结构都给震掉了，但是胶还是没有去掉。楼主，有没有好的建议分享一下，谢谢
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努力努力努力吧
15楼2016-01-27 15:04:20
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hitsz_li

铁虫 (初入文坛)
supernatural: 屏蔽内容, 违规存档, 帖子里不允许留下网站链接 2020-05-27 12:54:17
本帖内容被屏蔽
16楼2020-05-24 09:29:48
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