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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 询问大家做lift-off都用什么胶？
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xixiqs

新虫 (初入文坛)

[交流] 询问大家做lift-off都用什么胶？ 已有13人参与

一直在用正胶做，效果不是特别好。。。
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人心是唯一的国界。。。
1楼 2011-12-12 10:51:35
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wen.bo.0101

新虫 (初入文坛)
★
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引用回帖:
6楼: Originally posted by hustjohn at 2011-12-19 17:03:14
2楼说的对。剥离用负胶比较好。主要跟光刻原理有关。

正胶是曝光部分被显影掉。光刻胶层顶部比底部的曝光量更充足，所以显影后容易形成上面小下面大的“正梯形”截面。这样镀金属后很难剥离掉。负胶则正好相反。 ...

说反了吧，正胶曝光区域容易形成的应该是上大下小的梯形截面吧，这样才不好剥离
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12楼2014-10-23 09:13:47
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damuchongzi

铁杆木虫 (小有名气)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖
剥离一般是用负胶，主要考虑显影后的形貌。当然一般负胶需要相对应的特定显影液，成本比较高，处理比较复杂。也可以用反转胶如AZ5214或正胶反转工艺（需要特殊的红外烘箱和溶剂）达到剥离所需光刻胶形貌。
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xixiqs
2楼2011-12-13 13:48:05
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xixiqs

新虫 (初入文坛)
送鲜花一朵
引用回帖:
楼: Originally posted by damuchongzi at 2011-12-13 13:48:05:
剥离一般是用负胶，主要考虑显影后的形貌。当然一般负胶需要相对应的特定显影液，成本比较高，处理比较复杂。也可以用反转胶如AZ5214或正胶反转工艺（需要特殊的红外烘箱和溶剂）达到剥离所需光刻胶形貌。

正胶反转工艺？？？你有这方面资料否？可否给传一下
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人心是唯一的国界。。。
3楼2011-12-13 16:14:08
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zeusshang

金虫 (小有名气)
★
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5214 lift-off专用
用正胶也不无不可，控制好金属层的厚度就行
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微纳加工
4楼2011-12-13 17:56:43
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