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xixiqs

新虫 (初入文坛)

[交流] 询问大家做lift-off都用什么胶? 已有13人参与

一直在用正胶做,效果不是特别好。。。
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人心是唯一的国界。。。
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damuchongzi

铁杆木虫 (小有名气)


小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖
剥离一般是用负胶,主要考虑显影后的形貌。当然一般负胶需要相对应的特定显影液,成本比较高,处理比较复杂。也可以用反转胶如AZ5214或正胶反转工艺(需要特殊的红外烘箱和溶剂)达到剥离所需光刻胶形貌。

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2楼2011-12-13 13:48:05
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wen.bo.0101

新虫 (初入文坛)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
引用回帖:
6楼: Originally posted by hustjohn at 2011-12-19 17:03:14
2楼说的对。剥离用负胶比较好。主要跟光刻原理有关。

正胶是曝光部分被显影掉。光刻胶层顶部比底部的曝光量更充足,所以显影后容易形成上面小下面大的“正梯形”截面。这样镀金属后很难剥离掉。负胶则正好相反。 ...

说反了吧,正胶曝光区域容易形成的应该是上大下小的梯形截面吧,这样才不好剥离
12楼2014-10-23 09:13:47
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xixiqs

新虫 (初入文坛)

送鲜花一朵
引用回帖:
: Originally posted by damuchongzi at 2011-12-13 13:48:05:
剥离一般是用负胶,主要考虑显影后的形貌。当然一般负胶需要相对应的特定显影液,成本比较高,处理比较复杂。也可以用反转胶如AZ5214或正胶反转工艺(需要特殊的红外烘箱和溶剂)达到剥离所需光刻胶形貌。

正胶反转工艺???你有这方面资料否?可否给传一下
人心是唯一的国界。。。
3楼2011-12-13 16:14:08
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zeusshang

金虫 (小有名气)


小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖
5214 lift-off专用
用正胶也不无不可,控制好金属层的厚度就行
微纳加工
4楼2011-12-13 17:56:43
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Janson87

铜虫 (初入文坛)


小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖
5214的处方里面不是有处理的方法跟步骤可以用作反胶吗?
5楼2011-12-13 21:22:02
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hustjohn

新虫 (初入文坛)


小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖
2楼说的对。剥离用负胶比较好。主要跟光刻原理有关。

正胶是曝光部分被显影掉。光刻胶层顶部比底部的曝光量更充足,所以显影后容易形成上面小下面大的“正梯形”截面。这样镀金属后很难剥离掉。负胶则正好相反。

5214本身是正胶,正常曝光一次之后,还要进行第二次无掩模版“裸曝”进行正负胶转换。两次曝光后,其作用就相当于负胶。但是显影还是用正胶的显影液,不需要特别去买负胶显影液。很方便,嘻嘻~!

希望我说清楚了~

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6楼2011-12-19 17:03:14
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xixiqs

新虫 (初入文坛)

送鲜花一朵
引用回帖:
: Originally posted by hustjohn at 2011-12-19 17:03:14:
2楼说的对。剥离用负胶比较好。主要跟光刻原理有关。

正胶是曝光部分被显影掉。光刻胶层顶部比底部的曝光量更充足,所以显影后容易形成上面小下面大的“正梯形”截面。这样镀金属后很难剥离掉。负胶则正好相反 ...

没有用过这种胶。。但回复很专业
人心是唯一的国界。。。
7楼2011-12-19 20:44:55
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yangguang53

金虫 (小有名气)


一般用负胶
8楼2011-12-20 08:16:28
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guanhm

木虫 (正式写手)


小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖
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引用回帖:
6楼: Originally posted by hustjohn at 2011-12-19 17:03:14:
2楼说的对。剥离用负胶比较好。主要跟光刻原理有关。

正胶是曝光部分被显影掉。光刻胶层顶部比底部的曝光量更充足,所以显影后容易形成上面小下面大的“正梯形”截面。这样镀金属后很难剥离掉。负胶则正好相反 ...

2楼还提到的特殊的红外烘箱和溶液,这些是怎么回事 ?还是说正胶第二次裸板曝光之后,第一曝光的地方又重新聚合了?类似于 负胶第一次曝光时候的光聚合?
9楼2012-02-11 11:50:25
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潍坊星泰克

铜虫 (初入文坛)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖

我们公司的高硅光刻胶就没这个问题   这是孙博士自己发明的 潍坊星泰克  
你不妨试试   如有需要联系我们0536-8888988  毛晓文
10楼2012-04-01 10:07:01
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