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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 金属 » 腐蚀防护 » 去除栅上面的钨保护层 求方法
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281334055

木虫 (正式写手)

[求助] 去除栅上面的钨保护层 求方法

我们是做MOS电容实验  结构为Si/SiO2/HfO2/TiN/W, 最上面的W是保护层 防止TiN的氧化的  大概是70nm左右

为了做XPS看一下 下面几层的成分 需要把W去掉 想问下用什么去除的效果好?

导师叫我用H2O2加热去除 但是表面会变的很乌, 并且有大斑点 效果很差 影响后面的实验 所以求助一下
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1楼 2011-11-04 11:21:31
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kelpie8086

金虫 (小有名气)
70 nm，直接磨掉行吗？
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2楼2011-11-04 18:36:39
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281334055

木虫 (正式写手)
引用回帖:
2楼: Originally posted by kelpie8086 at 2011-11-04 18:36:39:
70 nm，直接磨掉行吗？

求具体方法 或工具(用什么磨)?
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3楼2011-11-04 20:27:44
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xiaanddong

银虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
281334055(金币+5): ★有帮助 谢谢了哈 不过暂时不想考虑这个问题了 2012-01-07 13:05:01
抹掉不靠谱，要用化学试剂的，你导师说的是对的，可能你的用量和时间控制有问题
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4楼2012-01-06 16:18:55
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