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281334055木虫 (正式写手)
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[求助]
去除栅上面的钨保护层 求方法
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我们是做MOS电容实验 结构为Si/SiO2/HfO2/TiN/W, 最上面的W是保护层 防止TiN的氧化的 大概是70nm左右 为了做XPS看一下 下面几层的成分 需要把W去掉 想问下用什么去除的效果好? 导师叫我用H2O2加热去除 但是表面会变的很乌, 并且有大斑点 效果很差 影响后面的实验 所以求助一下 |
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kelpie8086
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281334055
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