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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料综合 » 材料与生态 » 磁控溅射与反应磁控溅射
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心在飘

木虫 (初入文坛)
引用回帖:
9楼: Originally posted by xjtu-sunhl at 2011-10-25 21:18:54:
我没镀过氧化铝，同学镀过很多氧化锆。
看来不是时间和规律的问题。是不是靶材的问题啊，将靶材重新清洗一下。
后者你的Ａｒ：Ｏ２比是否合适啊，你可以参考文献变化一下。

靶材没问题，氧化铜，氧化硅都能镀上，就氧化铝现在还没，估计是仪器本身的问题，得用中频反应溅射试试
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11楼2011-10-26 09:10:18
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dwysd

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★
wbcui(金币+2): 不错，你的条件都写出来了 2011-10-26 20:24:12
心在飘(金币+1): 那你的本底真空度和溅射压强是多少呢，我为什么一点都没镀上 2011-10-26 20:39:32
当时做的条件，Ar/O2=20/5  (sccm)，Al 靶RF溅射功率300W左右，靶基距不超过10cm，从来没有问题过。
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12楼2011-10-26 14:06:34
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lwei_txj

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★ ★
wbcui(金币+2): 靶中毒，什么意思？ 2011-10-26 20:24:42
建议查阅一些相关的书籍，先对制备方法了解以后再去做实验，包括一些基础的表征方法，都应该了解。
向实验室的其他人多学习。
做学问不是培养操作工的。
铝的溅射阈值本身就不太高，如果氧气量比较大的话很容易靶中毒，不管多长时间基底上肯定也没东西的。
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13楼2011-10-26 15:48:51
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心在飘

木虫 (初入文坛)
引用回帖:
13楼: Originally posted by lwei_txj at 2011-10-26 15:48:51:
建议查阅一些相关的书籍，先对制备方法了解以后再去做实验，包括一些基础的表征方法，都应该了解。
向实验室的其他人多学习。
做学问不是培养操作工的。
铝的溅射阈值本身就不太高，如果氧气量比较大的话很容易 ...

关键是氧气量已经很小，通1sccm都没镀上，连铝都没溅射上，你镀过吗？参数多少？
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14楼2011-10-26 20:41:54
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qw905

至尊木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

建议看看王怡德《磁控溅射技术》！
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15楼2011-10-27 08:53:59
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d83685625

新虫 (初入文坛)
溅射二氧化硅，有直接拿二氧化硅做靶材的吗？
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16楼2015-12-23 10:16:41
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caojingpie

木虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

真空度5*10-3
你是圆柱磁控还是平面磁控，一般膜层结合力最多60N左右，你镀了多久，1小时能涨几十纳米就不错了。
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17楼2015-12-23 16:03:21
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wbcui

至尊木虫 (知名作家)
你们磁控溅射哪里买的？
整套的么？
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18楼2015-12-23 19:39:37
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sxchcgg872

铜虫 (小有名气)
引用回帖:
10楼: Originally posted by 大鲨鱼邓肯 at 2011-10-26 08:48:29
没有，对氧化铝性能不了解！...

我在玻璃上镀过1um厚氧化铝，大约耗时20小时，很慢慢的

发自小木虫Android客户端
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19楼2015-12-24 23:27:26
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