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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料综合 » 材料与生态 » 磁控溅射与反应磁控溅射
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心在飘

木虫 (初入文坛)

[求助] 磁控溅射与反应磁控溅射 已有1人参与

有做磁控溅射或反应磁控溅射镀氧化铝薄膜的吗？怎么镀上去的呀？有什么关键控制吗？我怎么镀不上去呀
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1楼 2011-10-25 11:08:40
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dwysd

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★
wbcui(金币+2): 不错，你的条件都写出来了 2011-10-26 20:24:12
心在飘(金币+1): 那你的本底真空度和溅射压强是多少呢，我为什么一点都没镀上 2011-10-26 20:39:32
当时做的条件，Ar/O2=20/5  (sccm)，Al 靶RF溅射功率300W左右，靶基距不超过10cm，从来没有问题过。
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12楼2011-10-26 14:06:34
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大鲨鱼邓肯

木虫 (著名写手)

大鲨鱼邓肯
★
wbcui(金币+1): 鼓励一下，多谢参与！ 2011-10-26 20:22:22
基底是什么呀？可能是膜基结合力的问题！
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Neverlosemybearings,justbemyself!
2楼2011-10-25 14:25:58
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dwysd

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★
心在飘(金币+1): 真有那么容易我就不问了，氧气通的量已经很小了，但连铝都溅射不上，更别说是反应溅射氧化铝了 2011-10-25 15:45:18
wbcui(金币+1): 鼓励一下，多谢参与！ 2011-10-26 20:22:06
Al 靶加Ar/O2混合气体溅射，很容易溅射沉积的。
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3楼2011-10-25 14:56:09
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心在飘

木虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by 大鲨鱼邓肯 at 2011-10-25 14:25:58:
基底是什么呀？可能是膜基结合力的问题！

基地用的玻璃，溅射得到的铜膜，还有铝膜，三种都试过，都溅射不上
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4楼2011-10-25 15:46:31
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