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直流磁控溅射镀膜总是被氧化
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各位大侠！本人做磁控溅射镀膜已经四五个月时间，一直坚持不懈努力着，但是每次镀出来的钛膜都是黄色的，用XRD检测发现是一氧化钛，现在离毕业时间不远了，但是自己一点成果都没有，论文都无从谈起，想请大家帮忙！不甚感激！另PS我试验中的参数 基底：单晶硅（100）（纯度99.9%） 背景真空度：6-8E-5pa Ar流量：20sccm 工作压强：0.5pa 溅射功率：100、150、200、250w 我的基底在实验之前分别丙酮，无水乙醇，去离子水分别超声波清洗20min，最后用吹风机吹干！ 我现在真是不知道自己哪出了问题，研究了很长时间了，希望有经验的大侠给我点建议，我都在崩溃的边缘了，在这么下去毕业无止境了都。跪求！ |
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王令111
木虫 (正式写手)
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