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如何用真空蒸镀控制2nm以下的Alq3 已有5人参与
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本人在蒸镀过程发现，膜厚仪的示数很不稳定，容易一直波动，无法较准确地判断此时Alq3已经蒸镀的厚度。这可能与膜厚仪参数的设置有关系。因此，1、想请教一下Alq3膜厚参数的设定（density,tooling or z-factor），借以参考；2、蒸镀时，样品台与Alq3的保持在怎样的距离会更为合适？本人保持在10-15cm。 目前本人通过反复实验已经可以较大致地控制Alq3的蒸镀速率，但总感觉要控制2nm以下的厚度，难把握。因为即使膜厚仪显示了数值，但不表示蒸镀到基片上的厚度也与此一致。希望相关专业人士指点迷津。 |
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