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求教SnO2刻蚀的问题
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看文献上说采用57%的HI在75度下可以以150nm/min的速度把SnO2薄膜（非ITO）给刻蚀掉，但是我200nm左右厚的薄膜放了1个小时都没办法成功。请教用什么方法可把SnO2薄膜给刻掉？ [ Last edited by 含树 on 2011-7-5 at 11:23 ] |
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2楼2011-07-15 10:28:14
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