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SiO2靶材烧结
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我用传统的固相烧结法烧结二氧化硅陶瓷片，烧结温度1500度和1520度都试过，预烧温度1100度，但是烧结出的陶瓷片致密度很低，最高的密度不到1.9g/cm3,致密度小于81%，请教各位大虾有没有好的烧结二氧化硅的方法？ |
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4楼2011-09-27 21:38:08
