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apolloljy

银虫 (小有名气)

[求助] 现今电子束曝光系统所能做的最小尺寸

我想请问现今电子束曝光系统所能做到最小的曝光图形和最小的曝光线宽分别能达到多少?
可否有近一两年的文献让我阅读以下,谢谢!

[ Last edited by apolloljy on 2011-6-12 at 16:24 ]
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jaylan

银虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖


wandaohzl(金币+1): 鼓励交流 2011-06-23 18:56:17
apolloljy(金币+1): 2011-07-01 10:36:17
这个和电子束曝光的系统有关系,不好给出具体值,最小应该达到了10nm
2楼2011-06-23 12:31:05
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dugu

木虫 (小有名气)

【答案】应助回帖


wandaohzl(金币+1): 鼓励交流 2011-06-23 18:56:25
apolloljy(金币+5): 2011-07-01 10:36:11
除了电磁透镜的聚焦性能外,主要决定于电子枪的加速电压,300KV的TEM的电子束最小可聚到5nm左右,30KV的SEM大约在20nm左右。
特征尺寸在电子束聚焦斑点之上。
书生老去机会方来
3楼2011-06-23 16:13:55
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zhoujun65

至尊木虫 (知名作家)

特征尺寸在电子束聚焦斑点之上。

4楼2011-06-24 02:36:06
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123321wah

铜虫 (初入文坛)

其实现在的电子束曝光系统所能做到的最小的曝光图形和最小的曝光线宽是根据SEM的精度来确定的。一般几个纳米都是没有多大问题的。基于SEM改装的电子束曝光系统相对于购买昂贵的专用电子束曝光机,以既有的SEM等为基础,可大幅节省造价,且兼具原SEM的观测功能,在功能与价格方面均有优势。http://www.phychemi.com/cp/html/?167.html
5楼2013-08-08 12:45:49
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