| 查看: 1073 | 回复: 2 | ||||
2010yjs金虫 (小有名气)
|
[求助]
如何清洗硅片
|
| 想在硅片上滴涂胶体溶液去照扫描电镜，想问问如何清洗硅片，才能达到洁净的要求！ |
回复此楼» 收录本帖的淘帖专辑推荐
 硅片 |
» 猜你喜欢
牛磺酸钠
已经有1人回复
-
Renlab@monash全奖博士机会，最后三天！
已经有0人回复
-
分析化学论文润色/翻译怎么收费?
已经有90人回复
-
今年面上没有消息，想来是没了，散个金攒攒人品，为明年祈福
已经有697人回复
-
合肥工业大学854仪器技术综合专业课考研
已经有0人回复
-
27年电化学博士毕业，想找海外QS前50的高校读博后求推荐
已经有3人回复
-
27年电池/材料类博士申请
已经有2人回复
-
2027年博士申请或转博科研助理 求推荐
已经有1人回复
-
请问谁有2025最新影响因子Excel表？金币求助！
已经有23人回复
-
氯化钠与有机磺酸分离
已经有0人回复
» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:
- 漱口水成分研究、研制方法及功效
已经有5人回复
- 重金悬赏！怎样在硅片或载玻片表面进行羟基化处理~
已经有11人回复
- 水溶液中纳米颗粒SEM电镜样品的制备
已经有19人回复
- 【请教】棉花纤维如何去除
已经有8人回复
- 【求助】旋涂成膜
已经有16人回复
- 【求助】用20%NaOH腐蚀硅片怎么这样（有图）
已经有16人回复
- 【求助】SEM ITO or 硅片？
已经有16人回复
- 【请教】硅片清洗后如何保存
已经有17人回复
- 【求助】求助：要做AFM前硅片怎么处理和旋涂？
已经有21人回复
liucheng200883
至尊木虫 (著名写手)
帝
- ECEPI: 90
- 应助: 401 (硕士)
- 贵宾: 0.736
- 金币: 21014.7
- 散金: 194
- 红花: 168
- 帖子: 2126
- 在线: 691.6小时
- 虫号: 444364
- 注册: 2007-10-27
- 专业: 电化学
【答案】应助回帖
2010yjs(金币+2): 2011-06-09 09:35:34
2010yjs(金币+1): 2011-06-10 16:30:35
2010yjs(金币+2): 2011-06-15 18:31:10
2010yjs(金币+1): 2011-06-10 16:30:35
2010yjs(金币+2): 2011-06-15 18:31:10
|
物理清洗 物理清洗有三种方法。①刷洗或擦洗:可除去颗粒污染和大多数粘在片子上的薄膜。②高压清洗：是用液体喷射片子表面，喷嘴的压力高达几百个大气压。高压清洗靠喷射作用，片子不易产生划痕和损伤。但高压喷射会产生静电作用，靠调节喷嘴到片子的距离、角度或加入防静电剂加以避免。③超声波清洗：超声波声能传入溶液,靠气蚀作用洗掉片子上的污染。但是,从有图形的片子上除去小于 1微米颗粒则比较困难。将频率提高到超高频频段，清洗效果更好。 化学清洗 化学清洗是为了除去原子、离子不可见的污染,方法较多,有溶剂萃取、酸洗（硫酸、硝酸、王水、各种混合酸等）和等离子体法等。其中双氧水体系清洗方法效果好，环境污染小。一般方法是将硅片先用成分比为H2SO4:H2O2=5:1或4:1的酸性液清洗。清洗液的强氧化性,将有机物分解而除去；用超纯水冲洗后,再用成分比为H2O:H2O2:NH4OH=5:2:1或5:1:1或7:2:1的碱性清洗液清洗,由于H2O2的氧化作用和NH4OH的络合作用，许多金属离子形成稳定的可溶性络合物而溶于水；然后使用成分比为H2O:H2O2:HCL=7:2:1或5:2:1的酸性清洗液，由于H2O2的氧化作用和盐酸的溶解，以及氯离子的络合性，许多金属生成溶于水的络离子，从而达到清洗的目的。 放射示踪原子分析和质谱分析表明，采用双氧水体系清洗硅片效果最好，同时所用的全部化学试剂 H2O2、NH4OH、HCl能够完全挥发掉。用H2SO4和H2O2清洗硅片时，在硅片表面会留下约2×1010原子每平方厘米的硫原子，用后一种酸性清洗液时可以完全被清除。用H2O2体系清洗硅片无残留物，有害性小，也有利于工人健康和环境保护。硅片清洗中用各步清洗液处理后，都要用超纯水彻底冲洗。 |
2楼2011-06-09 09:23:41
2010yjs
金虫 (小有名气)
- 应助: 0 (幼儿园)
- 金币: 1088.3
- 散金: 279
- 帖子: 242
- 在线: 112.4小时
- 虫号: 1127144
- 注册: 2010-10-20
- 专业: 电化学分析
3楼2011-06-09 09:36:34
