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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 无机非金属 » 交流探讨 » 如何去除或增加二氧化硅微球表面的硅羟基？
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sheldon102

金虫 (著名写手)

[求助] 如何去除或增加二氧化硅微球表面的硅羟基？

对于stober法制备的纳米级二氧化硅微球，如何减少或增加表面的硅羟基量？要减少硅羟基的话，煅烧可以吗？多少温度呢？要增加又如何处理呢？
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1楼 2011-05-10 08:37:56
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翱翔天空

铁杆木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

huangzx1314: 鼓励常来无机版交流～～ 2011-05-12 07:42:17
其实胶体氧化硅表面含有的羟基数已经足够多了（4.6个/平方纳米，和测量方法还有一定的关系），你若是改性使得表面羟基数增加，分散性、稳定性不见得好
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专利代理
15楼2011-05-12 00:22:34
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