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【求助】磁控溅射辉光稳定性求助已有4人参与
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我用的磁控溅射仪镀的Cu薄膜，以前做的时候溅射时辉光很稳定，但最近几次，Cu的辉光很不稳定，电流电压都不稳，请问下谁知道是什么原因？溅射时设置的电流120mA，工作气压设置的是2Pa,通的保护气是氩气。 [ Last edited by ding2008212 on 2011-4-15 at 12:24 ] |
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