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【求助】2273测微弧氧化膜阻抗怎么测
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用的是2273电化学工作站测AZ91D镁合金表面微弧氧化膜阻抗曲线，但是总是很乱，波动幅值从5、10、20、30mv都试过，但依然还是不行。频率范围为100KHz-10mHz。 涂层厚度在15um左右，已经进行过沸水水煮法封孔。全浸泡2周后，几乎没有失重，涂层表面开始发暗，没有观察到剥离现象。 测试前试样提前在腐蚀液3.5%NaCl中浸泡了有1h，动电位测试正常，就是EIS很乱。 请问有知道这方面的知识的虫友吗？ [ Last edited by jeanzhouqi on 2011-4-4 at 20:05 ] |
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谢谢你的指点。 沸水封孔和硅酸盐封孔，通过点滴实验对比，两者变色时间相近，故选择沸水封孔，且我课题主要是研究微弧工艺，所以封孔并没有详细研究。 SEM观察由于近阶段SEM坏了，没法观察，待观察后才能知道具体情况。 由于浸泡初期EIS测不出来，所以其他浸泡阶段的EIS就没有去测，试样已经准备好，未放入腐蚀液中开始浸泡，计划是找到EIS散乱的原因后，再浸泡测不同阶段EIS。 浸泡初期EIS测试一般在500Hz左右就开始变得异常杂乱无章，从开始到500Hz时间很短，腐蚀液对涂层和基体金属的侵蚀对谱图的影响在这么短时间内会这么大吗？ 请问下，不同浸泡时间的阻抗谱图你是怎么测的，是一个试样浸泡不同时间来测，还是一个试样测一个时间，测另一个浸泡时间的EIS时必须要换新的试样？ |
10楼2011-04-05 10:10:12
2楼2011-04-01 21:31:02
3楼2011-04-04 11:36:11
jeanzhouqi(金币+5): 谢谢，我后来做过封孔，浸泡两周后，失重极少，几乎没有，没有出现明显的涂层剥离现象。。 2011-04-04 19:59:41
| 不是十分认同3L的观点，树脂的导电性比多孔的微弧氧化涂层要差很多，测出来的阻抗谱还是很漂亮的。不知道LZ涂层厚度是多少，腐蚀液用的什么溶液，我个人认为镁合金自身腐蚀性能很差，且微弧氧化涂层多孔，如果涂层较薄的话腐蚀液很容易渗透至基体，这样会导致镁合金基体被腐蚀，这样你实际测试的过程是一个动态的过程，可能是导致图谱散乱的原因。建议你做后一点的涂层，染后测试一下看看结果如何，如果实在不行就只能换仪器试试了，我用过2273和zahner，测出来的效果都很好，但是ivium测出来的图谱就很乱。个人建议，希望对LZ有所帮助。 |
4楼2011-04-04 15:13:41
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