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泥巴303

铜虫 (正式写手)


[交流] 【讨论】关于晶种在支撑体上的涂覆问题

最近看到有些文献,采用二次诱导法做分子筛膜之前,将晶种涂覆在支撑体上后需要将支撑体在马弗炉里烧一下,请问一下这样做的目的是什么
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泥巴303

铜虫 (正式写手)


那不煅烧是不是就不接触了呢,我看大部分文献都是不经过煅烧这一步的

引用回帖:
Originally posted by 月月165 at 2011-04-01 10:34:14:
目的是让晶种和支撑体接触

那不煅烧是不是就不接触了呢,我看大部分文献都是不经过煅烧这一步的
3楼2011-04-01 23:55:22
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月月165

银虫 (小有名气)


泥巴303(金币+5): 2011-04-01 23:53:30
目的是让晶种和支撑体接触
2楼2011-04-01 10:34:14
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月月165

银虫 (小有名气)


有的晶种制备使用的模板剂,煅烧可能是为了脱出部分模板剂吧。方便加5681103
4楼2011-04-02 08:30:08
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泥巴303

铜虫 (正式写手)


但是煅烧的温度远远小于去除模版剂的温度啊,我觉得应该不是这个原因

引用回帖:
Originally posted by 月月165 at 2011-04-02 08:30:08:
有的晶种制备使用的模板剂,煅烧可能是为了脱出部分模板剂吧。方便加5681103

但是煅烧的温度远远小于去除模版剂的温度啊,我觉得应该不是这个原因
5楼2011-04-02 10:33:39
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