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【讨论】关于晶种在支撑体上的涂覆问题
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【讨论】关于晶种在支撑体上的涂覆问题
最近看到有些文献，采用二次诱导法做分子筛膜之前，将晶种涂覆在支撑体上后需要将支撑体在马弗炉里烧一下，请问一下这样做的目的是什么
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2011-03-28 21:23:46
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泥巴303(金币+5): 2011-04-01 23:53:30
目的是让晶种和支撑体接触
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2011-04-01 10:34:14
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那不煅烧是不是就不接触了呢，我看大部分文献都是不经过煅烧这一步的
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Originally posted by
月月165
at 2011-04-01 10:34:14:
目的是让晶种和支撑体接触
那不煅烧是不是就不接触了呢，我看大部分文献都是不经过煅烧这一步的
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3楼
2011-04-01 23:55:22
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有的晶种制备使用的模板剂，煅烧可能是为了脱出部分模板剂吧。方便加5681103
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2011-04-02 08:30:08
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但是煅烧的温度远远小于去除模版剂的温度啊，我觉得应该不是这个原因
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月月165
at 2011-04-02 08:30:08:
有的晶种制备使用的模板剂，煅烧可能是为了脱出部分模板剂吧。方便加5681103
但是煅烧的温度远远小于去除模版剂的温度啊，我觉得应该不是这个原因
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2011-04-02 10:33:39
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可是要脱出模版剂需要700C的温度，而涂覆晶种后只烧350C，两者差别还是蛮大的啊
可是要脱出模版剂需要700C的温度，而涂覆晶种后只烧350C，两者差别还是蛮大的啊
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2011-04-02 15:09:35
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