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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 晶体 » 文献解析 » 【讨论】关于晶种在支撑体上的涂覆问题
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泥巴303

铜虫 (正式写手)

[交流] 【讨论】关于晶种在支撑体上的涂覆问题

最近看到有些文献，采用二次诱导法做分子筛膜之前，将晶种涂覆在支撑体上后需要将支撑体在马弗炉里烧一下，请问一下这样做的目的是什么
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1楼 2011-03-28 21:23:46
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月月165

银虫 (小有名气)
泥巴303(金币+5): 2011-04-01 23:53:30
目的是让晶种和支撑体接触
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2楼2011-04-01 10:34:14
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泥巴303

铜虫 (正式写手)

那不煅烧是不是就不接触了呢，我看大部分文献都是不经过煅烧这一步的

引用回帖:
Originally posted by 月月165 at 2011-04-01 10:34:14:
目的是让晶种和支撑体接触

那不煅烧是不是就不接触了呢，我看大部分文献都是不经过煅烧这一步的
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3楼2011-04-01 23:55:22
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月月165

银虫 (小有名气)
有的晶种制备使用的模板剂，煅烧可能是为了脱出部分模板剂吧。方便加5681103
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4楼2011-04-02 08:30:08
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泥巴303

铜虫 (正式写手)

但是煅烧的温度远远小于去除模版剂的温度啊，我觉得应该不是这个原因

引用回帖:
Originally posted by 月月165 at 2011-04-02 08:30:08:
有的晶种制备使用的模板剂，煅烧可能是为了脱出部分模板剂吧。方便加5681103

但是煅烧的温度远远小于去除模版剂的温度啊，我觉得应该不是这个原因
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5楼2011-04-02 10:33:39
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泥巴303

铜虫 (正式写手)

可是要脱出模版剂需要700C的温度，而涂覆晶种后只烧350C，两者差别还是蛮大的啊

可是要脱出模版剂需要700C的温度，而涂覆晶种后只烧350C，两者差别还是蛮大的啊
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6楼2011-04-02 15:09:35
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