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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 【求助】氢氟酸刻蚀硅片，粗糙度是怎么变化的啊？
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guangyuan89

木虫 (正式写手)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
引用回帖:
Originally posted by lzb7758520 at 2011-03-24 10:27:13:
正解，谢谢啊！高手呵呵

以前找过这方面的  有点印象  呵呵
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这年头做人不容易啊
11楼2011-03-25 18:18:11
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yxznjust

禁虫 (初入文坛)
★ ★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
金光闪闪2010(金币+1): 2011-04-10 19:26:11
本帖内容被屏蔽
12楼2011-03-25 23:23:46
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andymaples

银虫 (正式写手)
★ ★
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金光闪闪2010(金币+1): 2011-04-10 19:26:18
我最近也在处理硅片，让我很是郁闷，我看别人的论文中是用百分之5的氟化氢处理5分钟，之后在氧化，是其表面形成均匀的氧化层，其粗糙度也达一个纳米。可是我用百分之五的氢氟酸处理后在用浓硫酸和双氧水的混合也处理后 让我很是郁闷，粗糙度变的很大，今天将刚用氟化氢处理的硅片拿去做原子力，发现表面有很多岛状突起，20微米的图副RMS在6个纳米，一般没处理的硅片的粗糙度都在2，3个纳米。又废了一批硅片，郁闷！
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风样的学者
13楼2011-04-10 16:03:55
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eagle0super

木虫 (小有名气)
HF去氧化层（2%），想打粗糙不知道你做什么用途，要多少的粗糙度？之前一次失败的实验：KOH刻蚀时倒是挺粗糙，不知道行不。如果有经费的话试试物理法吧
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学术人，学术路，有你我，振中华！
14楼2011-04-15 15:45:38
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lzb7758520

铁杆木虫 (著名写手)
引用回帖:
Originally posted by andymaples at 2011-04-10 16:03:55:
我最近也在处理硅片，让我很是郁闷，我看别人的论文中是用百分之5的氟化氢处理5分钟，之后在氧化，是其表面形成均匀的氧化层，其粗糙度也达一个纳米。可是我用百分之五的氢氟酸处理后在用浓硫酸和双氧水的混合也处 ...

我用10%的氢氟酸腐蚀10min中，再做AFM怎么老是感觉不到粗糙度的变化啊？难道氢氟酸不能增加粗糙度吗？
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梦想不能当饭吃啊
15楼2011-06-12 10:38:47
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wanglurong1985

金虫 (正式写手)
★
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（100）/（111）的刻蚀选择比非常大，因此随着时间的延长几乎不会有什么变化，如果需要变粗糙，需要加电场，具体可以查阅相关资料或者给我E-mail，我做过这方面工作，了解一些。

wanglurong1985@yahoo.com.cn
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16楼2011-06-13 17:18:35
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479967958

铜虫 (正式写手)
引用回帖:
694315楼: Originally posted by lzb7758520 at 2011-03-16 20:14:58
我用的是p（100）面的，氢氟酸腐蚀能不能使粗糙度加大呢？...

刻蚀后，水的接触角能达到多少度？
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17楼2013-01-30 15:48:17
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