| 查看: 3142 | 回复: 16 | |||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | |||
lzb7758520铁杆木虫 (著名写手)
|
[交流]
【求助】氢氟酸刻蚀硅片，粗糙度是怎么变化的啊？ 已有12人参与
|
||
|
我最近想用10%氢氟酸刻蚀下硅片形成一定的粗糙度，可是文献中说法不一样啊，有的说随时间延长粗糙度会越来越大，有的说基本保持不变，到底哪个对啊？我针对的是抛光面。 不知谁有相关的文献提供下。 [ Last edited by lzb7758520 on 2011-3-16 at 14:10 ] |
回复此楼» 猜你喜欢
请问对标matlab的开源软件octave的网站https://octave.org为什么打不开？
已经有1人回复
-
求助两种BiOBr晶体的CIF文件（卡片号为JCPDS 09-0393与JCPDS 01-1004 ）
已经有0人回复
-
无机化学论文润色/翻译怎么收费?
已经有209人回复
-
哈尔滨工程大学材化学院国家级青年人才-26年硕士招生
已经有0人回复
» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:
- 近日气温变化频繁奉上一味营养米粥----对付风寒引起的感冒
已经有8人回复
- 硅片湿法刻蚀 怎么刻蚀不上啊？求救
已经有11人回复
- 【求助】请问苯酚，结晶酚，重蒸酚，饱和酚有什么区别啊？
已经有5人回复
- 【求助】三羟甲基丙烷如何除水啊
已经有24人回复
17楼2013-01-30 15:48:17