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【求助】关于XPS的几点疑问
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我尝试用XPS测量物质A上吸附物质B的厚度,原理参见化学工业出版社《材料结构表征及应用》(吴刚编)357页的相关公式。由于书中没有实例介绍,故实际测试有几处疑问。 测试中,先 以Si2p光电子经过样品甲(即物质A),再以Si2p光电子经过样品乙(即表面吸附了物质B后的物质A),通过分析Si2p光电子经过样品甲和乙的衰减强度,来计算吸附的物质B的厚度。 公式中需知悉光电子的动能Ek,该值如何得出?貌似非常重要!我手头有Si2p光电子经过样品甲和乙的XPS谱图;以及给出的Atomic Concentration Table,分别为C1s , O1s , Si2p的数值,样品甲的该值依次为22.69 , 71.99 , 5.32 ,这三个数据代表什么? 请大家帮帮忙,谢谢! |
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