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【求助】关于XPS的几点疑问
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我尝试用XPS测量物质A上吸附物质B的厚度，原理参见化学工业出版社《材料结构表征及应用》（吴刚编）357页的相关公式。由于书中没有实例介绍，故实际测试有几处疑问。 测试中，先 以Si2p光电子经过样品甲（即物质A），再以Si2p光电子经过样品乙（即表面吸附了物质B后的物质A），通过分析Si2p光电子经过样品甲和乙的衰减强度，来计算吸附的物质B的厚度。 公式中需知悉光电子的动能Ek，该值如何得出？貌似非常重要！我手头有Si2p光电子经过样品甲和乙的XPS谱图；以及给出的Atomic Concentration Table，分别为C1s , O1s , Si2p的数值，样品甲的该值依次为22.69 , 71.99 , 5.32 ,这三个数据代表什么？ 请大家帮帮忙，谢谢！ |
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