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hegelle

银虫 (初入文坛)

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[交流] 【讨论】金属辅助化学刻蚀硅纳米线金颗粒

用Ag刻蚀Si纳米线的常见刻蚀液为 HF 4.6M， H2O2 0.44M，用金的话刻蚀液浓度需要改么？

[ Last edited by hegelle on 2011-3-10 at 13:23 ]

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1楼 2011-03-10 13:13:29

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SCU_magiclee

铁杆木虫 (正式写手)

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hegelle(金币+2):谢谢参与
hegelle(金币+2): 2011-03-17 02:59:38

引用回帖:

Originally posted by yq01y at 2011-03-12 20:23:55:
这种方法，金属颗粒是用作催化剂；浓度估计不大！你可以参考北大的一个研究小组；pengkuiqing!

彭奎庆是在清华读的博士。。不要乱说
现在是北师大的副教授吧，可能已经成教授了
发了一堆这方面的文章了，都是ADV. Matter adv.fun.Matter这种级别的，最近还有jacs，nanoletters，从机理到器件，做得非常系统。金银的离子溶液就不说了，硝酸铁和和H2O2都可以刻蚀硅衬底，不过要先用聚乙烯球在硅衬底表面自组装一个薄层（起到掩模板的作用），然后蒸镀一层银，银在硅表面就是小纳米颗粒阵列，然后再刻蚀。。反正找一篇来看看就知道了，不过具体条件还是需要摸一下的