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[交流]
【讨论】金属辅助化学刻蚀硅纳米线 金颗粒
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用Ag刻蚀Si纳米线的常见刻蚀液 为 HF 4.6M， H2O2 0.44M， 用金的话刻蚀液浓度需要改么？ [ Last edited by hegelle on 2011-3-10 at 13:23 ] |
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3楼2011-03-10 13:29:42
4楼2011-03-10 16:44:57
5楼2011-03-10 17:16:37
6楼2011-03-11 17:06:34
9楼2011-03-12 20:23:55
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hegelle(金币+2):谢谢参与
hegelle(金币+2): 2011-03-17 02:59:38
hegelle(金币+2):谢谢参与
hegelle(金币+2): 2011-03-17 02:59:38
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彭奎庆是在清华读的博士。。不要乱说 现在是北师大的副教授吧，可能已经成教授了 发了一堆这方面的文章了，都是ADV. Matter adv.fun.Matter这种级别的，最近还有jacs，nanoletters，从机理到器件，做得非常系统。金银的离子溶液就不说了，硝酸铁和和H2O2都可以刻蚀硅衬底，不过要先用聚乙烯球在硅衬底表面自组装一个薄层（起到掩模板的作用），然后蒸镀一层银，银在硅表面就是小纳米颗粒阵列，然后再刻蚀。。反正找一篇来看看就知道了，不过具体条件还是需要摸一下的 |
10楼2011-03-13 09:29:06
11楼2012-02-20 09:49:19
简单回复
2011-03-10 13:25
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hegelle(金币+2):谢谢参与
hegelle(金币+1): 2011-03-10 13:40:00
hegelle(金币+1): 2011-03-10 13:40:00
x123v07楼
2011-03-11 17:14
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hegelle(金币+2):谢谢参与
hegelle(金币+2): 2011-03-11 22:04:45
hegelle(金币+2): 2011-03-11 22:04:45
zhkw8楼
2011-03-11 20:12
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hegelle(金币+2):谢谢参与
hegelle(金币+2): 2011-03-11 22:04:35
hegelle(金币+2): 2011-03-11 22:04:35
