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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 计算模拟区 » 仿真模拟 » 其他 » 【求助】硅CVD反应器内流体分布模拟
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houlucky

木虫 (正式写手)

[交流] 【求助】硅CVD反应器内流体分布模拟

在多晶硅CVD反应器中，反应物料从反应器底部通入，在沉积载体兼发热体的硅棒表面反应沉积，底部通入的物料必须保持一定的流速，以将沉积载体表面的反应产物层及时破坏，以便反应继续进行，请问什么软件可以模拟反应器内的物料分布（流体状态、反应物/产物浓度分布等），如何才能根据该课题做博士论文，主要研究创新点在哪里，请各位虫虫支招，谢谢！
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1楼 2011-01-14 09:57:34
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wfove

禁虫 (初入文坛)
★
houlucky(金币+5): 谢谢 2011-02-15 17:42:11
xiegangmai(金币+1): 谢谢应助 2011-02-15 19:01:18
houlucky(金币+5): 谢谢 2011-06-13 10:01:19
本帖内容被屏蔽
4楼2011-02-15 15:59:32
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